為了清潔 CVD 和 ALD/ALE 工藝室，Paragon 遠程等離子源專為 NF 3的高氣體離解率 (> 95%) 而設計，氣體流量高達 8 slm，壓力高達 10 Torr。這種領先的性能轉化為更高的工藝吞吐量和可重復的工藝結果。Paragon 設計結合了專有等離子塊設計和等離子電解氧化涂層，可實現低顆粒、長塊壽命，從而降低擁有成本。
?
- 高達 8 slm NF 流量，緊湊的尺寸可實現更快的清潔時間
- 一流的解離 (>95%)，實現高效均勻的清潔效果
- EtherCAT 智能數據報告可實現更快、更嚴密的設備操作
- 兼容O?2和NF?3混合氣體
- 專有的 PEO 等離子塊設計提供更高的工藝性能
模擬或 EtherCAT 控制
?
Paragon 遠程等離子源具有模擬和 EtherCAT? 通信端口。EtherCAT 可用于 Paragon 的直接控制，或與模擬端口結合使用，僅作為數據監控端口。Paragon 將智能數據集流式傳輸到工具或晶圓廠數據庫，以監控或修改操作參數，以保持工藝工具以最高效率運行并支持診斷（APC、FDC）應用程序。